氣氛真空箱式爐

產(chǎn)品參數(shù)

　　主要用途：電子陶瓷、半導(dǎo)體、發(fā)光材料等產(chǎn)品的水份、有機溶劑的中高溫燒成、除碳、排膠、燒成等工藝；也可用于氣氛真空實驗、測試或者小試生產(chǎn)等。
　　主要特點：獨特氣氛加熱系統(tǒng)，效率高，超輕質(zhì)纖維材料保溫，電控響應(yīng)迅速，節(jié)能環(huán)保。模塊化設(shè)計，產(chǎn)品系列齊全。
　　使用溫度：600℃-1600℃。
　　常用氣氛：氮氣、氫氣、氫氮混合氣體或者真空狀態(tài)使用等。
　　功能選件：耐熱鋼潔凈外密封爐膛、獨特的保護氣氛系統(tǒng)、超輕質(zhì)全纖維爐膛、計算機集成控制系統(tǒng)、溫度曲線記錄打印、氣氛檢測分析系統(tǒng)、設(shè)備凈化應(yīng)用。

備注：功能可根據(jù)客戶需求專門定制。